UV光催化氧化反应器

首先废气经过 254 纳米波段光切割、断链、燃烧、裂解废气分子链，改变分 子结构，取 185 纳米波段光对废气分子进行催化氧化，使破坏后的分子或中子、原子以 O3 进行结合，使有机或无机高分子恶臭化合物分子链，在催化氧化过程中，转变成低分子化合物 CO2、H2O 等，再根据不同的废气成分配置 27 种以上相对应的惰性催化剂，催化剂采用蜂窝状金属网孔作为载体，全方位与光源接触，惰性催化剂在 338 纳米光源以下发生催化反应，放大 10-30 倍光源效果，使其与废气进行充分反应，缩短废气与光源接触时间，从而提高废气净化效率。通过 UV 光解后的废气净化效果超过国家GB14554-93《恶臭污染物排放标准》表 2 恶臭污染物排放标准值，接着经过光解处理后的废气进入下道工艺。 uTM1
利用特制的高能 UV 紫外线光束照射废气，裂解工业废气如：氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、乙酸丁酯、乙酸乙酯、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物 H2S、VOC 类，苯、甲苯、二甲苯的分子链结构，使有机或无机高分子恶臭化合物分子链，在高能紫外线光束照射下，降解转变成低分子化合物，如 CO2、H2O 等。 uTM1
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利用高能 UV 紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游 离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧。 UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧)，众所周知臭氧对有机物具有极强的氧化作用，对工业废气及其它刺激性异味有立竿见影的清除效果。uTM1
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废气输入到本净化设备后，净化设备运用高能 UV 紫外线 光束及臭氧对工业废气进行协同分解氧化反应，使工业废气物质其降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通过排风管道排出。uTM1
利用高能-C 光束裂解工业废气中细菌的分子键，破坏细菌的核酸（DNA），再通过臭氧进行氧化反应，彻底达到净化及杀灭细菌的目的．从净化空气效率考虑，我们选择了-C 波段紫外线和臭氧发结合电晕电流较高化装置采用脉冲电晕放吸附技术相结合的原理对有害气体进行消除，其中-C 波段紫外线主要用来去除硫化氢、氨、苯、甲苯、二甲苯、甲醛、乙酸乙酯、乙烷、丙酮、尿烷、树脂等气体的分解和裂变，使有机物变为无机化合物。 uTM1
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废气进入光氧催化氧化设备的条件： uTM1
（1）≦70℃ uTM1
（2）相对洁净气体 uTM1
（3）设备处理后，尾气排放达到国家工业排放标准uTM1
光敏半导体催化氧化或纳米金属氧化物光催化也是近年来的研究热点，但该技术的降解效率受控于污染物质与催化剂表面界面扩散速率，而且催化剂价格昂贵、容易中毒失效。光催化设备为非防爆设备，不适用于防爆区域。